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中析检测

芯片全流程反向工程测试

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咨询量:  
更新时间:2025-06-15  /
咨询工程师

信息概要

芯片全流程反向工程测试是一项针对集成电路芯片的全面检测服务,旨在通过逆向分析技术,揭示芯片的设计、工艺和功能特性。该测试对于知识产权保护、技术竞争分析、产品质量验证以及故障诊断具有重要意义。通过反向工程测试,客户可以获取芯片的详细技术参数,评估其性能与可靠性,并为后续研发或生产提供数据支持。

反向工程测试在半导体行业中具有不可替代的作用,尤其在技术引进、侵权鉴定和产品优化等领域。本检测服务涵盖从芯片拆解到电路重建的全过程,确保数据的准确性和完整性。

检测项目

  • 芯片外观检查
  • 封装材料分析
  • 引脚功能测试
  • 内部结构成像
  • 层间介质分析
  • 金属布线检测
  • 晶体管尺寸测量
  • 掺杂浓度分析
  • 逻辑功能验证
  • 功耗特性测试
  • 信号完整性分析
  • 时钟频率测试
  • 温度特性测试
  • 电磁兼容性测试
  • 失效分析
  • 材料成分检测
  • 工艺节点鉴定
  • 电路仿真验证
  • IP核识别
  • 安全漏洞检测

检测范围

  • 数字集成电路
  • 模拟集成电路
  • 混合信号集成电路
  • 微处理器
  • 存储器芯片
  • FPGA芯片
  • ASIC芯片
  • 射频芯片
  • 电源管理芯片
  • 传感器芯片
  • 通信芯片
  • 图像处理芯片
  • 音频处理芯片
  • 汽车电子芯片
  • 物联网芯片
  • 人工智能芯片
  • 军工级芯片
  • 消费级芯片
  • 工业级芯片
  • 医疗电子芯片

检测方法

  • X射线衍射分析:用于检测芯片内部晶体结构
  • 扫描电子显微镜:观察芯片表面和断面形貌
  • 聚焦离子束切割:准确制备芯片截面样品
  • 能谱分析:测定材料元素组成
  • 红外光谱分析:识别有机封装材料
  • 探针台测试:测量电学特性参数
  • 热成像分析:检测芯片温度分布
  • 激光切割:非接触式样品制备
  • 化学腐蚀:逐层剥离芯片结构
  • 光学显微镜检查:初步观察芯片外观
  • 原子力显微镜:纳米级表面形貌分析
  • 二次离子质谱:检测微量掺杂元素
  • 电学特性测试:验证功能性能
  • 失效分析技术:定位故障原因
  • 电路提取技术:重建芯片电路图

检测仪器

  • 扫描电子显微镜
  • 透射电子显微镜
  • X射线衍射仪
  • 能谱分析仪
  • 聚焦离子束系统
  • 探针台
  • 红外光谱仪
  • 激光切割机
  • 原子力显微镜
  • 二次离子质谱仪
  • 热成像仪
  • 光学显微镜
  • 化学腐蚀设备
  • 电学测试系统
  • 电路仿真软件

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